真空除气炉的构成介绍
真空测量装置：采用复合真空计，使测量更加准确。
加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。
前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。
分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。
管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。
真空除气储存柜设备用途
本系统主要分为机械与电控两大部分。下面将详述各个部分构成。
机械部分主要由以下两个单元构成：真空箱室单元、真空获得系统单元。
真空除气储存柜设备主要应用于金属材料与非金属材料的高真空热处理。主要应用行业与工艺：半导体硅片除气；3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；X射线管高真空除气。
高真空除气炉的特点
科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。
高真空除气炉特点：
① 极限真空度高；
② 控温精度高；
③ 更高的升温速率；
④ 更加智能化；
⑤ 可真空去除产品空洞与气泡；
⑥ 降低产品的氧化性；
⑦ 提高工艺室的洁净度。
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